EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。シリーズ「オンチップ多層配線技術」の第14回です。
EUVリソグラフィと自己組織化リソグラフィ（DSAリソグラフィ）を組み合わせると、
回路パターンの線幅とエッジの寸法ばらつきを減らせる。きれいなパターンを描けるようになります。
平行配線パターンの形成に応用した試作例を紹介しております。
ばらつきが減ると解像度が上がる。さらには露光量（ドーズ量）を減らせる可能性があります。
ドーズ量が減ると露光装置の延命につながります。
詳しくは記事をお読みいただけるとうれしいです。
