Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

セミコンウエストのレポート記事をさらに追加「EUV露光装置開発の歴史」

EETimes Japan誌に掲載しておりますセミコンウエスト(SEMICON West)のレポート記事をさらに追加しました。


「SEMICON West 2015リポート(6):ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表(3)〜EUV露光装置の開発史」
http://eetimes.jp/ee/articles/1508/28/news028.html


時間の経つのは早いです。最初のEUV露光装置「ADT」が出荷されたのが2006年。来年にはそれから10年になります。EUVリソグラフィの実用化時期は当初は28nmとか22nmとか言われていたのが、どんどん先延ばしに。ハードルはどんどん高くなり、開発努力しつつもゴールが遠ざかっていくという。厳しい世界です。


お手すきのときにでも、眺めていただけるとうれしいです。