EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。シリーズ「オンチップ多層配線技術」の第13回です。
自己組織化リソグラフィ(DSAリソグラフィ)による平行配線パターン形成の工程を説明しています。
ArF液浸リソグラフィよりも、はるかに微細なパターンを作れています。
お手すきのときでも、記事をながめていただけるとうれしいです。
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ArF液浸リソグラフィよりも、はるかに微細なパターンを作れています。
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