Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

IEDM2008レポートのさらに続きです


「IEDM 2008 - Intel、32nmロジックプロセスの詳細を発表」
http://journal.mycom.co.jp/articles/2008/12/18/iedm2008intel/index.html
第2世代の高誘電率膜/金属ゲート技術です。

まだあります。

「IEDM 2008 - IMEC、EUV露光を導入して32nm世代のSRAMセルを試作」
http://journal.mycom.co.jp/articles/2008/12/18/iedm2008euv/index.html
EUV露光装置はASMLのAlpha Demo Toolです。コンタクトのリソグラフィに使いました。


どんどん書きました。

「IEDM 2008 - TSMC、高誘電率膜/金属ゲート技術による28nmプロセスを発表」
http://journal.mycom.co.jp/articles/2008/12/18/iedm2008tsmc/index.html
論文集は32nmプロセスの内容でした。ところが講演ではタイトルが28nm、内容も論文集とは全然違う図版となっていました。したがって本文は講演のメモだけから起こしています。

しかしIEDMのような伝統と権威の在る国際学会で、論文集と全く違う内容の講演をやってよいものでしょうか。よく分かりません。