IEDM2009レポートの続きが掲載されました

マイコミジャーナル様に掲載していただきました。

「Intel、32nmプロセスのSoC技術を開発」
http://journal.mycom.co.jp/articles/2010/01/13/iedm2009_intel/index.html
高誘電率膜/金属ゲート（High-k/Metal gate）のSoCプロセスです。
前回のIEDM2008で発表済みの高性能プロセッサ用32nmプロセスのアップデート講演にもふれております。

このあとにもIEDMレポートが掲載されると思います。