2008-12-23から1日間の記事一覧
「IEDM 2008 - IBMグループ、22nmプロセスによるSRAMセルを試作」 http://journal.mycom.co.jp/news/2008/12/22/024/index.html リソグラフィ技術はArF液浸露光とダブルパターニング（二重露光と二重エッチング）の組み合わせです。ダブルパターニングの導入…
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「IEDM 2008 - IBMグループ、22nmプロセスによるSRAMセルを試作」 http://journal.mycom.co.jp/news/2008/12/22/024/index.html リソグラフィ技術はArF液浸露光とダブルパターニング（二重露光と二重エッチング）の組み合わせです。ダブルパターニングの導入…
