Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

半導体リソグラフィ技術の国際会議プレビュー


半導体リソグラフィ(露光)技術に関する世界最大の国際会議「31st International Symposium Microlithography (Microlithography 2006)」を取材する予定です。下調べの次いでに、ファイナルプログラムからプレビューを執筆しました。MYCOM PC WEBに記事が掲載されています。


半導体リソグラフィ会議、32nmをかけてArF液浸とEUVが激突へ
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/13/ml/


前回、この会議を取材したのは、1987年だったと記憶しています。19年も前のことですね。このころ「0.5μmを狙うエキシマレーザーリソグラフィ」という特集記事を某誌で担当しました。0.5μm???はっきり言って大嘘つきです(まあ、マスコミ人のほとんどは嘘つきですし、大半は大嘘つきまたは大ボラ吹きと呼ぶのが正しいですが)。時効ですので許してください(←オイ