Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

コラム「セミコン業界最前線」を更新。「IntelとSamsungのEUVリソグラフィ開発」

PC Watch様から頂いておりますコラム「セミコン業界最前線」を更新しました。


IntelSamsungが7nmロジック量産への適用を目指すEUV露光技術」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/column/semicon/1050027.html


2月末に米国カリフォルニア州サンノゼで開催されたリソグラフィ技術の国際学会から、IntelSamsung Electronicsの講演を基に、EUVリソグラフィ開発の最新状況を解説するレポートを書いております。


EUVリソグラフィ技術はこれまでの光リソグラフィ技術とは、かなり違う技術です。露光装置(スキャナ)はもちろんのこと、インフラ(基盤)を成立させる要素技術の大半を新たに開発しなければなりません。10年を超える開発期間を経て、ようやく量産準備の手前まで来たというのが実感です。


半導体製造技術の世代で考えると、7nmロジックまでは光露光(ArF液浸のマルチパターニング)でぎりぎり、なんとかなりそうです。なりそうですが、量産歩留まりがどうなるのかが心配です。本格的な量産を可能にするのは、EUV露光技術に見えてきます。ただし、EUV露光技術の完成度が量産の域にまで達しているかどうかが、まだあやふやです。


そして5nmロジックになると、これはもう光露光では無理そうです。EUV露光技術を導入しない限り、本格的な量産は極めて困難でしょう。EUV露光技術の完成時期が、5nmロジックの量産時期を左右しそうです。