半導体製造装置と半導体材料に関する北米最大のイベント、セミコンウエスト（SEMICON West）のレポート記事を再開しました。第4回となります。EETimes Japan誌に掲載していただいております。
ASMLのEUVリソグラフィ開発に関する講演の概要をご報告しております。
「SEMICON West 2015リポート(4)：ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（1）〜ArF液浸の限界」
http://eetimes.jp/ee/articles/1508/21/news059.html
巨額の投資を必要とするEUVリソグラフィ装置の研究開発では、オランダのASMLが唯一の開発主導企業となっています。かつてはニコンもEUVリソグラフィ装置を開発していたことがあるのですが、撤退してしまいました。
お手すきのときにでも、記事を眺めていただければ、嬉しいです。
【追記】週間PVランキングで3位に入りました！！
http://eetimes.jp/ee/articles/1508/29/news012.html
これも皆さまのおかげです。ありがとうございます。
