セミコンウエストのレポート記事が続いております。今回からは、キヤノンの講演をレポートします。キヤノンが開発中のナノインプリント・リソグラフィ技術に関する講演からです。
「SEMICON West 2015リポート（8）：ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（1）〜低い装置コストが最大の武器」
http://eetimes.jp/ee/articles/1509/04/news028.html
インプリント技術を微細化したものがナノインプリント技術です。
インプリント・リソグラフィとは、型（テンプレート）をレジストに押し付けて型の形状をレジストに転写することです。単純化すると。テンプレートには回路のパターンが凹凸で形成してあるので、レジストにそのパターンが転写されます。その凸凹が転写されたレジストを紫外線で硬化すると、レジストのパターンが完成します。それからテンプレートを剥がします。これだけです。
お手すきのときにでも、記事を読んでいただけるとうれしいです（こればっかりですね（苦笑））。
