EETimes Japan誌で連載しておりますセミコンウエストレポート。現在はキヤノンのナノインプリント・リソグラフィ技術を紹介中です。まだ続いております。
「SEMICON West 2015リポート(11)：ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（4）〜「パーシャルフィールド」への対処」
http://eetimes.jp/ee/articles/1509/15/news011.html
今回はかなり細かい話題です。インプリント・リソグラフィに特有の課題「パーシャルフィールド」の内容と対策です。通常のArFレーザーリソグラフィでもパーシャルフィールドはあるのですが、露光領域の寸法を調節してパーシャルフィールドを減らせるのが大きな違いです。インプリント技術ですとテンプレートが露光領域の大きさを固定してしまう。スループットが恐ろしく低いインプリントでは、テンプレートをぐっと小さくしてパーシャルフィールドを減らす、という選択肢を採りづらいと思われます。厄介なところです。
うーん。本当はここまで説明したほうが良かったかも。失敗しました。
お手すきのときでも、眺めていただけるとうれしいです。
