Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

Microlithographyその4

引き続きSPIE Microlithographyからの記事です。
これで完結です。


・45nm対応ArF液浸露光装置の最新状況を発表
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/25/ml1/


・技術開発の最新状況を総括する(2部構成)
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/26/ml1/
1986年9月に初めてEUV露光技術が学会で公表されたとき、偶然記事を書いていたことが分かりました(写真:『日経マイクロデバイス』、1986年11月号、p.47から)。当時はX線と言えば近接露光の研究が主流だった時代。EUVがここまで盛り上がるとは思いませんでした。感慨深いものがあります。



スライドからの取材メモだけで記事を起こしているので、難易度はえらく高めだったものの、学会自体はもんのすごく面白く、かつエキサイティングでした。ただし今回は旅費が一部しか出ていないので、トータルの収支は赤字です。つらいぜ・・・(*TдT*)