引き続きSPIE Microlithographyからの記事です。
これで完結です。
・45nm対応ArF液浸露光装置の最新状況を発表
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/25/ml1/
・技術開発の最新状況を総括する（2部構成）
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/26/ml1/
1986年9月に初めてEUV露光技術が学会で公表されたとき、偶然記事を書いていたことが分かりました（写真：『日経マイクロデバイス』、1986年11月号、p.47から）。当時はX線と言えば近接露光の研究が主流だった時代。EUVがここまで盛り上がるとは思いませんでした。感慨深いものがあります。
スライドからの取材メモだけで記事を起こしているので、難易度はえらく高めだったものの、学会自体はもんのすごく面白く、かつエキサイティングでした。ただし今回は旅費が一部しか出ていないので、トータルの収支は赤字です。つらいぜ・・・（*ＴдＴ*）
