Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

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2015-09-01から1ヶ月間の記事一覧

HDDの高密度化技術「SMR」登場の背景を解説

PCWatch誌の連載コラム「セミコン業界最前線」を更新しました。 HDDの高密度化技術「SMR(Shingled Magnetic Recording)」が登場した背景を解説しております。米国シリコンバレーで開催されたイベント「ストレージ開発者会議(SDC)」の取材報告を兼ねてい…

傑作! 筒井康隆氏「モナドの領域」

新潮 2015年 10 月号 [雑誌]出版社/メーカー: 新潮社発売日: 2015/09/07メディア: 雑誌この商品を含むブログ (7件) を見る 新潮10月号に筒井康隆氏の最新長編「モナドの領域」(330枚)が一挙掲載されています。 傑作です。 自分は筒井ファンを名乗れるほど…

NVIDIAの開発者向けイベントGTC Japan 2015からOpenPOWERの動向をレポート

NVIDIAの開発者向けイベントGTC Japan 2015が9月18日に東京で開催されました。基調講演や一般講演、インタビューなどから、OpenPOWERの動向をレポートしております。18日にイベント、19日に原稿執筆、20日に米国出張に出発という緊張感あふれるスケジュール…

ストレージ開発者会議(SDC)レポート2号機「SSDのインテリジェント化」

米国シリコンバレーでストレージ開発者会議(SDC)が開催されました。そのレポート第2弾です。 「SSDのインテリジェント化で性能を上げ、寿命を伸ばす新技術」 http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/event/20150924_722291.html SSDをインテリジェント化…

ストレージ開発者会議(SDC)レポート初号「SAS-4(24Gb/s SAS)の概要」

PCWatch誌にストレージ開発者会議(SDC)のイベントレポートを掲載していただきました。 SDCはストレージの業界団体SNIAが主催して秋に米国カリフォルニア州シリコンバレーで開催してきた技術講演会です。 「24Gbpsの次世代シリアルSCSI「SAS-4」の概要」 ht…

キヤノンのインプリント・リソグラフィ技術の連載、最終回です

EETimes Japan誌で連載しておりますSemicon Westリポート。キヤノンのナノインプリント・リソグラフィに関する講演レポートの最終回です。今回はインプリント装置の開発ロードマップを掲載しております。 「ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演…

コラム「セミコン業界最前線」を更新、不揮発性DIMMの製品動向と標準化動向

PCWatch誌に連載しておりますコラム、「セミコン業界最前線」をさらに更新です。不揮発性メモリをDIMMカードの載せた不揮発性DIMM(NVDIMM)の製品動向と標準化動向を解説しております。 「不揮発性メモリをDIMMスロットに装着する標準規格「NVDIMM」」 http…

キヤノンのナノインプリント・リソグラフィ技術の連載、まだ続きます

EETimes Japan誌で連載しておりますセミコンウエストレポート。現在はキヤノンのナノインプリント・リソグラフィ技術を紹介中です。まだ続いております。 「SEMICON West 2015リポート(11):ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演(4)〜「パーシ…

コラム「セミコン業界最前線」を更新、NANDフラッシュ搭載DIMMの動向

PCWatch誌に掲載していただいておりますコラム、「セミコン業界最前線」を更新しました。 DIMMにNANDフラッシュメモリを載せる動きを解説しております。 「NANDフラッシュをDIMMに載せたら」 http://pc.watch.impress.co.jp/docs/column/semicon/20150914_72…

セミコンウエストレポート、キヤノンのナノインプリント・リソグラフィ第3回(生産性と欠陥密度の二律背反)

EETimes Japan誌に掲載していただいておりますコラムの続きです。ナノインプリント・リソグラフィ技術に関する講演レポートの第3回となります。 「SEMICON West 2015リポート(10):ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演(3)〜生産性と欠陥密度」…

コラム「セミコン業界最前線」を更新、NANDフラッシュメモリの将来展望

PCWatch誌に掲載していただいておりますコラム「セミコン業界最前線」を更新しました。NANDフラッシュメモリの将来を展望しています。 「暗いトンネルを抜けたNANDフラッシュが描くバラ色の未来」 http://pc.watch.impress.co.jp/docs/column/semicon/201509…

セミコンウエストのレポート記事、キヤノンのナノインプリント・リソグラフィの続き(解像度と位置合わせ)

まだまだ続いております。セミコンウエストのレポート記事をEETimes Japan誌に掲載していただきました。キヤノンが開発中のナノインプリント・リソグラフィ技術に関する講演のレポートです。今回は第2回となります。 「ナノインプリント開発の進展状況をキヤ…

「技術ジャーナリズム」とは何か(1)、のはずがこんなことに(恥)

以前から書こうと思っていたテーマなのですが、いつまでたってもまとまらない。 まとまらないと書けない。ずっとそう思っていたのです。しかし。突然、降りてきました。開き直ればいいのではないかと。つまり、まとまらないままで書き始めたらどうなるのだろ…

セミコンウエストのレポート記事、キヤノンが開発しているナノインプリント・リソグラフィ技術の講演から

セミコンウエストのレポート記事が続いております。今回からは、キヤノンの講演をレポートします。キヤノンが開発中のナノインプリント・リソグラフィ技術に関する講演からです。 「SEMICON West 2015リポート(8):ナノインプリント開発の進展状況をキヤノ…

いつまでたっても海外出張が減らない、どころか、増えそうな理由

(この内容はfacebookに書いたものと同じです) 「経費削減のために今年は海外出張を必要最低限まで減らすぞ!!」と誓ったはずが。気がつくとこうなっています(苦笑)。これまで海外出張した月は、2月、4月、6月、7月、8月。これから海外出張する月は、9月…

2015年8月の本ブログ、アクセスログのまとめです

平素はご訪問をありがとうございます。8月のアクセスログがまとまりましたのでお知らせします。 2015年8月のアクセス数は以下の通りです。トータルアクセス数 7713 (7月は6487) ユニークアクセス数 6902 (7月は5743)

セミコンウエストのレポート記事、ASMLの次期EUV露光機の概要

セミコンウエストのレポート記事を追加しました。ASMLによるEUVリソグラフィ技術講演レポートの最終回です。次期EUV露光機「NXE:3350B」の概要を紹介しております。 「SEMICON West 2015リポート(7):ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表(4)〜次期…