EETimes Japan様から頂いておりますコラム「ストレージ通信」を更新しました。
フラッシュメモリサミット(FMS)の講演紹介の続きです。最終回となります。
技術調査会社で半導体チップの解析で知られるTechInsights。
同社でシニア技術フェローをつとめるJeodong Choe氏の講演概要です。
その第16回となります。
IBMとIntelのハイエンドプロセッサは4次キャッシュや3次キャッシュといった複層構成のキャッシュを採用しています。
ラストレベルのキャッシュはかなりの大容量となります。ここで埋め込みDRAM(eDRAM)を使うことで、SRAMキャッシュに比べてシリコン面積(記憶容量当たり)を削減しています。おおよそ、3倍~4倍の記憶密度(あるいは記憶容量)が見込めます。
詳しくは記事をお読みいただけるとうれしいです。
DRAM (Dynamic Random Access Memory) Process Flow (English Edition)
- 作者:Linliu, Kung
- 発売日: 2020/02/06
- メディア: Kindle版