引き続きSPIE Microlithographyからの記事です。
・Microlithography 2006 - ArF液浸の延命には高屈折率レンズの開発が必須
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/24/ml1/
・Microlithography 2006 - MIT、光で22nmのパターンを解像
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/24/ml2/
宿泊先を引っ越しました。チェックアウトで「アラカワのゴールドメダルおめでとう」と言ってきたので「ありがとう」と返したら「オレはミシェルクワンに賭けてたんだけどな」（笑）。
