SPIE Microlithography 2006を取材中です。
記事がいくつか、MYCOM PC WEBに掲載されました。
カンファレンスは初日から盛況
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/21/ml1/
30nmを切る微細パターンを光で解像
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/22/ml1/
ASMLがEUV露光装置の内容を公表
http://pcweb.mycom.co.jp/articles/2006/02/22/ml2/
ASMLがEUV露光装置の内容を紹介した21日午前の講演は大盛況でした。
会場は立ち見どころか、床に座って聴講する座り見（？）まで出ていました。
