EETimes Japan様から頂いておりますコラム「ストレージ通信」を久々に更新しました。
メモリセルアレイのベースとなるマルチペア薄膜の形成 (1/2) - EE Times Japan
3D NANDフラッシュメモリの製造技術とスケーリングに関する技術解説のシリーズ連載、その第7回となります。
セルトランジスタのベースとなる、マルチペア薄膜の形成技術について説明しております。
お手すきのときにでも、記事を眺めていただけるとうれしいです。
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