PC Watch様の依頼で取材してきました。
リソグラフィ技術はArF液浸がさらに延命され、28nm技術はほぼ確実にいけそうです。
EUV露光または電子ビーム直接描画の出番は、22nm以降になりそうです。
午後の始めには記者会見が開かれたので、記事にはその様子も少し入っています。
「液浸露光で28nmを加工した微細なSRAMセルを試作」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2008/1022/tsmc.htm
写真は昼食のお弁当です。
お弁当を食べて一服（注：お茶）していると、懐かしい方から声をかけられました。
以前とは担当する仕事が変わったとのことです。
その方が最近、台湾に何度か出張している訳が分かってしまいました（笑。
ファブライトは、日本でも静かに進行中です。
