EETimes Japan誌に掲載しておりますSEMICON West（セミコンウエスト）レポートをを追加しました。ASMLのリソグラフィ開発に関する講演の第2回です。今回はEUV露光装置の開発をふりかえっております。
「SEMICON West 2015リポート(5)：ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（2）〜開発の進ちょく状況」
http://eetimes.jp/ee/articles/1508/26/news035.html
お手すきのときにでも、お読みいただければ幸いです。
