Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

EUV技術開発プロジェクトの成果発表会

を取材しました。技術研究組合「極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA:Extreme UltraViolet Lithography System Development Association)」の研究成果報告会です。


マイコミジャーナル:「EUVAの研究成果最終報告会 - 2011年の量産目指して開発が急速に進展」
http://journal.mycom.co.jp/articles/2008/05/23/euva/index.html


極端紫外線露光(EUVL:Extreme UltraViolet Lithography)技術の開発はインフラまるごとやらなければいけないので、ものすごくキツイ。でもやらないと、まじめに微細化がとまってしまう。ArF液浸はレンズ開発がネックになっており、今のところはEUVLに期待する半導体ベンダーが増えています。2年ほど前とは、大分風向きが変わっていました。