EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。新シリーズ「オンチップ多層配線技術」の第2回です。
配線技術が半導体チップに与える影響をます論じています。
それから、将来の配線技術に導入される要素技術の候補を挙げています。
お手すきにときにでも、記事を眺めていただけば幸いです。
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EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。新シリーズ「オンチップ多層配線技術」の第2回です。
配線技術が半導体チップに与える影響をます論じています。
それから、将来の配線技術に導入される要素技術の候補を挙げています。
お手すきにときにでも、記事を眺めていただけば幸いです。
EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。
新シリーズ「オンチップの多層配線技術」を始めました。
IntelがVLSIシンポジウムのショートコースで講演した内容が基になっております。
多層配線の基本から将来技術までを概観します。
ご期待ください。
EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。
実装技術ロードマップの内容紹介シリーズ、その第87回となります。シリーズの最終回です。
トピックスとして、実装設備間と実装設備・ホスト間を結ぶ次世代通信規格「SEMI SMT-ELS」を前回に続いて紹介しています。
技術仕様の内容を簡単に説明しております。
従来規格のSMEMAに対応した実装設備も、SEMI SMT-ELSの通信ネットワークに組み込めるようにしてあります。
詳しくを記事をお読みいただけるとうれしいです。