Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

コラム「セミコン業界最前線」を更新。「EUVリソグラフィの開発ロードマップ」

PC Watch様から頂いておりますコラム「セミコン業界最前線」を更新しました。

pc.watch.impress.co.jp

ついに量産適用が始まったEUVリソグラフィ技術。その開発ロードマップを解説しております。


開口数(NA)が0.33の現行技術では、半導体ロジックの3nm世代までが見えています。
言い換えると、3nm世代までの微細化は大丈夫、ということです。

解像度(ハーフピッチ)は、波長とプロセス係数に比例し、投影光学系の開口数に反比例します。

波長(λ)は13.5nmとNAは0.33に固定されているので、解像度の向上手段はプロセス係数(k1)の縮小だけ、となります。
具体的なところは、記事をお読みくださいませ。

【福田昭のセミコン業界最前線】見えてきた7nm以降の量産用EUV露光技術 - PC Watch