EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。
IEDM 2017のプレビュー第6回です。2日目午後の続きとなっております。
サブスレッショルド領域で動作する負性容量トランジスタ、200mmウエハープロセスで製造するシリコンフォトニクス、窒化ガリウム(GaN)の高耐圧トランジスタ、ダイヤモンドを材料とするトランジスタ、などの注目講演をご紹介しています。
お手すきのときにでも眺めていただけるとうれしいです。
![シリコンフォトニクス シリコンフォトニクス](https://images-fe.ssl-images-amazon.com/images/I/51SxnASoCrL._SL160_.jpg)
- 作者: Lorenzo Pavesi,David J. Lockwood,木村達也
- 出版社/メーカー: オーム社
- 発売日: 2017/11/24
- メディア: 単行本(ソフトカバー)
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![シリコンフォトニクス―先端光テクノロジーの新展開 シリコンフォトニクス―先端光テクノロジーの新展開](https://images-fe.ssl-images-amazon.com/images/I/41Wsy1dtT1L._SL160_.jpg)
- 作者: 金光義彦,深津晋
- 出版社/メーカー: オーム社
- 発売日: 2007/12
- メディア: 単行本
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