VLSI Symposia 2011のレポートをPCWatch様に掲載していただきました。
「日本の半導体ベンチャーがNORフラッシュの性能限界を突破」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/event/20110621_454780.html
NORフラッシュメモリの大容量化と書き換え高速化を実現する新型フラッシュ技術です。90nm技術で512Mbitのチップを試作しています。日本で開発されたというのがうれしいです。
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