Electronics Pick-up by Akira Fukuda

日本で2番目に(?)半導体技術に詳しいライターのブログ

米国ワシントンDC出張中

IEDMのレポートを書きました。2本アップされています。



「IEDM実行委員会が選ぶ注目講演、High-k/Metal-gate FETやNVRAMなどを列挙」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2007/1212/iedm02.htm
公式ハイライトです。



Intel、量産用45nmプロセスの詳細を公表」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2007/1212/iedm03.htm
High-k/Metal gateが量産に使われ始めました。MOSトランジスタと訣別です。一つの時代の終わりと、新しい時代の始まりを感じました。複雑な気分です。