PC Watch様から頂いておりますコラム「セミコン業界最前線」を更新しました。
半導体ロジックの技術ノードで3nm以降の世代を担う、次世代EUVリソグラフィ技術の解説です。
EUVリソグラフィ技術に関する短期集中連載の第3回であり、最終回となります。
過去2回の記事は以下のようなものです。
第1回はこちら。
pc.watch.impress.co.jp
第2回はこちら。
pc.watch.impress.co.jp
結論は、「半導体製造技術の微細化は今後10年は続く目処が立った」ことです。
開発リソースさえ続けば、技術的には根本的な限界はありません。2020年代はずっと、微細化が継続します。たぶん。
もちろん、微細化以外の高密度化手法の研究開発も、並行して続きます。
でも主役である微細化継続の目処が立ったことは、とても心強いことです。
