半導体製造に不可欠な洗浄技術を解説

「はじめての半導体洗浄技術」
ISBN:4769312121

半導体製造では、シリコンウエハーの表面を清浄に保つ必要があります。
そのために塵埃や金属イオン、自然酸化膜などを取り除き、
しかも塵埃などが付着しないように表面を処理する技術が洗浄技術です。

真空技術好き、表面物理好きな自分には非常に楽しく読めました。
ところどころ難しくて分からなかいのはとりあえず置いといて（苦笑）。

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