当ブログではアフィリエイト広告を利用しています
「はじめての半導体洗浄技術」 ISBN:4769312121 半導体製造では、シリコンウエハーの表面を清浄に保つ必要があります。 そのために塵埃や金属イオン、自然酸化膜などを取り除き、 しかも塵埃などが付着しないように表面を処理する技術が洗浄技術です。 真空…
引用をストックしました
引用するにはまずログインしてください
引用をストックできませんでした。再度お試しください
限定公開記事のため引用できません。