PC Watch様から受託しておりますコラム「セミコン業界最前線」を更新しました。
半導体の研究開発コミュニティにおける冬の二大イベント（国際学会）が始まります。
初めは12月上旬の国際電子デバイス会議（IEDM）です。デバイス技術とプロセス技術を扱っています。
その予告編を2回に分けてご報告しております。
今回は前編です。基本テーマや基本的なスケジュール、プレイベント、基調講演、一般講演セッション、パネル討論といった概要を説明しています。そして最後に注目講演としてCMOSロジックに関する発表をまとめています。
いよいよサブナノメートル時代が始まろうとしています。記号が「N（ナノ）」から「A（オングストローム）」に変わる。
すなわち微細化と高密度化の最果てに到達しつつあります。オングストロームの先はありません。微細化の終わりは決定的です。
しかし高密度化と高速化は止まらない、ように開発努力が続きます。
3次元積層構造の相補型トランジスタ（CFET）は当然のこととなり、CFETと2次元電子材料を組み合わせた動作速度向上までは見えています。
その先はどこにいくのか。
詳しくは記事をお読みいただけるとうれしいです。
