コラム「デバイス通信」を更新。「次々世代のトランジスタ「シーケンシャルCFET」の製造プロセス」

EETimes Japan様から頂いておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。

新シリーズ「 imecが語る3nm以降のCMOS技術」の第15回となります。

eetimes.itmedia.co.jp

コンプリメンタリFET（CFET）の製造プロセスの続きです。
シーケンシャルCFETの課題（ウエハー貼り合わせ界面における欠陥の発生）を扱っております。

お手すきのときにでも、記事を眺めていただけるとうれしいです。