PC Watch様から頂いておりますコラム「セミコン業界最前線」を更新しました。
「「ムーアの法則は揺るがない」、Intelが公表した10nmのプロセス技術」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/column/semicon/1054832.html
14nmプロセスを2014年に発表してから、およそ3年ぶりの次世代プロセス発表です。過去の2年サイクルに比べると、開発に時間がかかっています。その分、高密度化をより強めてきました。10nmプロセスでは14nmプロセスに比べ、トランジスタ密度を2.7倍に、ロジック面積を0.37倍にしています。いずれも標準的な高密度化では2倍、0.5倍ですので、相当に上回っていることが分かります。
10nmプロセスを代表とする製造技術の先進性をアピールするために、Intelはわざわざ、講演会「Intel Technology and Manufacturing Day」を開催しました。このイベントから見えてくることの1つは、ファウンダリ事業（シリコンの製造請け負い事業）への意欲です。このために一般的なファウンダリ企業と同様に、プロセス技術のバリエーション（派生バージョン）を増やそうとしています。このあたりは、時間があったら詳しく書きたいです。
