EETimes Japan誌で連載しておりますコラム「デバイス通信」を更新しました。前回に続き、リソグラフィ技術の歴史を解説しております。
「「SEMICON West 2016」、半導体露光技術の進化を振り返る（中編）」
http://eetimes.jp/ee/articles/1608/12/news031.html
年代としてはおおよそ、1970年代後半から1980年代前半です。光露光の限界が議論された時代。電子ビームとX線に注目が集まります。そこに光露光技術のブレークスルーが起こり、「光源波長を短くせずに、解像度が上がる」という大逆転が起こります。
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