IRPS 2009レポートの最終回が完成しました。
PCWatchに掲載されております。
「高誘電率膜/金属ゲートのリーク電流を抑える」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/event/20090515_168670.html
高誘電率膜/金属ゲート（High-k/Metal gate）技術のリーク電流に関するIBMの講演とIntelの講演、それからリーク電流のマッピングに関するIBMの講演を収録しています。
ちなみに次回のIRPSは2010年5月2〜6日に米国カリフォルニア州アナハイムで開催の予定です。
詳細は下記PDFをご覧くださいませ。アブストラクトの投稿締め切りは10月2日です。
http://www.irps.org/call/2010cfp.pdf
